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冠合ショートファイバー硬質フェルト:SiC誘導炉の超性能守護者

発行時間: 2025-12-30訪問済み:19 回数

超高温純度保証

  • 灰分 <10 ppm、金属不純物 <5 ppm(半導体グレード純度)、シリコン蒸気侵食を完全遮断、SiC結晶マイクロパイプ密度を83%低減。
  • 気液複合コーティング技術による「分子シールド」構築、シリコン耐浸透性を300%向上。
  • 高温純化プロセスにより、2300℃結晶成長環境での汚染ゼロを保証。

精密熱場制御

性能冠合ショートファイバー硬質フェルト従来材料比較
熱伝導率0.038 W/(m·K)0.15 W/(m·K)
温度均一性±2℃(2300℃全工程)±15℃
応答速度高周波電磁場に適合、ミリ秒単位温度調整3 - 5秒遅延

段階的空孔構造(50 - 300μm)により熱エネルギーを封じ込め、結晶成長速度を40%向上、単炉生産性を25%向上。

省エネルギー・長寿命の模範

  • エネルギー消費大幅削減:熱効率45%向上、単炉あたり年間80万kWh省エネ(CO₂排出量630トン削減相当)。
  • 寿命飛躍的向上:耐熱衝撃性 >1200回(ΔT = 2000℃熱サイクル)、交換頻度を月1回→年1回に低減、年間メンテナンスコストを200万元削減。
  • 剛柔耐損傷性:3次元繊維強化構造により電磁振動変形を抑制、2300℃での熱収縮率 <0.3%。

顧客実証事例

SiCウェーハメーカーが冠合ショートファイバー硬質フェルトを採用した結果:

  • エネルギー消費:結晶1トンあたり電力消費を52%削減(1580 kW·h → 760 kW·h)。
  • 歩留まり:6インチ基板の欠陥率を15%→3.8%に低減。
  • コスト:熱場部品の年間支出を300万元削減。

冠合新材料——ナノスケール炭素構造で、第三世代半導体熱場の新基準を定義!